氧化鋯陶瓷高剪切膠體磨

氧化鋯陶瓷高剪切膠體磨

陶瓷膠體磨是由二組陶瓷轉(zhuǎn)子，二組陶瓷定子組成，在陶瓷膠體磨泵腔內(nèi)部轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)，使陶瓷轉(zhuǎn)子甩出，緊貼陶瓷定子，產(chǎn)生強(qiáng)勁的動(dòng)能能快速地將粉體分散到液體中，**、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相分布到另一個(gè)連續(xù)的相中，通常物料中的各個(gè)相是互不相溶的。。使物料在定轉(zhuǎn)子之間微小的空隙中受到剪切、離心擠壓、撞擊、研磨、高頻振蕩等綜合作用，使物料經(jīng)過研磨后細(xì)度大大提高，再通過適量的添加劑共同作用，使產(chǎn)品快速、均勻、分散、乳化，研磨，避免了原金屬膠體磨磨損后效果差缺點(diǎn)，效能比原來有膠體磨提高3倍以上，特別是對金屬污染要求特別高的企業(yè)，如電子和電池行業(yè)，可以達(dá)到更高品質(zhì)產(chǎn)品。

陶瓷膠體磨，包括氧化鋯陶瓷膠體磨，氧化鋁陶瓷膠體磨，氮化硼陶瓷膠體磨，但是硬度**的是氧化鋯陶瓷膠體磨
氧化鋯陶瓷膠體磨用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。

GMSD2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GMSD2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

三級錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上，**的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM.所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。
　　
陶瓷膠體磨特別適合于那些3、工藝應(yīng)用

4、應(yīng)用范圍
電子電池：鋰電池正漿料、鋰電池負(fù)漿料、電路板基材漿料
納米材料：超細(xì)碳酸鈣、白炭黑等納米材料解聚、納米粉體應(yīng)用固-液分散
精細(xì)化工：熱熔膠、密封膠、膠水、絮凝劑、表面活性劑
生物醫(yī)藥：藥膏、軟膏、霜?jiǎng)�、注射劑、微膠囊乳劑、填充劑分散　

以下為型號表供參考：

型號	標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H	輸出轉(zhuǎn)速 rpm	標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s	馬達(dá)功率 KW	進(jìn)口尺寸	出口尺寸
XMD2000/4	400	18000	44	4	DN25	DN15
XMD2000/5	1500	10500	44	11	DN40	DN32
XMD2000/10	4000	7200	44	22	DN80	DN65
XMD2000/20	10000	4900	44	45	DN80	DN65
XMD2000/30	20000	2850	44	90	DN150	DN125
XMD2000/50	60000	1100	44	160	DN200	DN150

 

氧化鋯陶瓷高剪切膠體磨