納米光觸媒二氧化鈦分散機

納米光觸媒二氧化鈦分散機

 

高剪切研磨分散機XMD2000溶解到純凈水中，或者蒸餾水，去離子水等，做成光觸媒水溶液，直接噴涂于墻壁，家居表面，以及汽車室內(nèi)等可以迅速的捕捉并分解室內(nèi)的甲醛，苯，氨等有害氣體，除味效果好。

納米材料是指兩相顯微結(jié)構(gòu)中至少有一相的一維尺度達到納米級。納米粒子粒徑很小，表面能很大，極易團聚此，所以如何制取納米粒子本身就是一個非常復(fù)雜的技術(shù)問題，如何能夠使用納米材料均勻的穩(wěn)定的分散而不團聚是納料技術(shù)的核心工作，納米的定義也要在納米材料以能夠?qū)崿F(xiàn)的功能，體現(xiàn)出納米效應(yīng)為主要依據(jù)。

影響納米材料分散要素：

1、分散介質(zhì)

（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

2、分散劑

（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關(guān)。

（3）水性介質(zhì)中，推薦使用TNWDIS。強極性溶劑中，如醇、DMF、NMP， 推薦使用TNADIS。中等極性溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠，推薦使用TNEDIS 。

3、分散設(shè)備

XMD2000進口高剪切研磨分散機
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考：

型號	標準流量 L/H	輸出轉(zhuǎn)速 rpm	標準線速度 m/s	馬達功率 KW	進口尺寸	出口尺寸
XMD2000/4	400	18000	44	4	DN25	DN15
XMD2000/5	1500	10500	44	11	DN40	DN32
XMD2000/10	4000	7200	44	22	DN80	DN65
XMD2000/20	10000	4900	44	45	DN80	DN65
XMD2000/30	20000	2850	44	90	DN150	DN125
XMD2000/50	60000	1100	44	160	DN200	DN150

納米光觸媒二氧化鈦分散機