上海微行爐業(yè)有限公司

鎳鈦記憶合金真空熱處理爐

TF1000-200-HV-T10技術簡介產品用途：主要用于稀土制備、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、硬質合金、鎳鈦記憶合金、3D打印金屬件（鈦合金TC4、23鈦等）真空熱處理、真空釬焊等。主要功能和特點：1、爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，保溫性能好，耐

2021-04-15 86000/臺

硬質合金真空釬焊爐

真空釬焊爐CUT250技術參數(shù)一、設備介紹1、焊接對象：天然金剛石、人造單晶、CVD金剛石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、設備特點：采用了光輻射的加熱方式，大幅提高加熱效率，設備小型、便捷、直觀、已操作，特別適合超硬工具的行業(yè)特點。采用小型真空密封方式在真空狀態(tài)下進行加熱、冷卻

2021-04-15 23000/臺

箱式氣氛熱處理爐

氣氛爐AF1200-50參數(shù)簡介設備簡介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環(huán)境下進行的燒結生產。技術參數(shù)：設備型號：AF1200-50爐膛尺

2021-04-15 36300/臺

真空管式爐 、高真空管式爐

設備用途本設備是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、氣氛還原燒結、CVD實驗、真空退火﹑熔化﹑物質成分測量分析而研制的專項使用理想設備。應用領域半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、

2021-04-15 56000/臺

金剛石真空釬焊爐

VF1300-422型真空爐技術參數(shù)（金屬屏）一、設備用途本設備主要應用于金屬材料高真空熱處理。主要應用行業(yè)與工藝：3D打印金屬工件與合金材料的高真空熱處理；硬質合金工具、金剛石砂輪等高真空釬焊；鈦合金植入物等材料高真空除氣。二、主要參數(shù)1、爐型結構：臥式，單室，爐體爐門采用

2021-04-15 250000/臺

MCD刀片真空釬焊爐

真空釬焊爐CUT180技術參數(shù)一、設備介紹1、焊接對象：天然金剛石、人造單晶、CVD金剛石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、設備特點：采用了光輻射的加熱方式，大幅提高加熱效率，設備小型、便捷、直觀、已操作，特別適合超硬工具的行業(yè)特點。采用小型真空密封方式在真空狀態(tài)下進行加熱、

2021-04-15 85000/臺

800度不銹鋼內膽燒結爐 高潔

設備技術參數(shù):設備型號：AF1400爐膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm1200*600*600mm較限溫度：1400工作溫度：1300控溫精度：?1度爐內溫均：?5度升溫

2021-04-15 50000/臺

PECVD等離子化學氣相沉積系

TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)產品簡介：此款設備配有Plasma實現(xiàn)等離子增強，滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調

2021-04-15 50000/臺

1200度氣氛保護電爐 氣氛燒

氣氛爐AF1200-50設備簡介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環(huán)境下進行的燒結生產。技術參數(shù)：設備型號：AF1200-50爐膛尺寸：

2021-04-15 1688/臺

高溫真空熱處理爐 真空光亮

一、設備基本原理及主要用途1.設備用途適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的準確退火與微晶化、晶體的準確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進行

2021-04-15 50000/臺

1700度氧化鋯高溫燒結爐

箱式高溫爐BF1800-422設備簡介：箱式高溫爐BF1800-422，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的準確退火與微晶化、晶體的準確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件及需高溫要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的生產設備。技術參

2021-04-15 1688/臺

1700℃高溫實驗馬弗爐

箱式高溫爐BF1700-30設備簡介：箱式高溫爐BF1700-30，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的準確退火與微晶化、晶體的準確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件及需高溫要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的生產設備。技術參數(shù)：設

2021-04-15 1688/臺

1200度高溫氣氛保護燒結爐

氣氛爐AF1200-50設備簡介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環(huán)境下進行的燒結生產。技術參數(shù)：設備型號：AF1200-50爐膛尺寸：500*

2021-04-15 1688/臺

高真空真空釬焊爐、硬質合金

真空釬焊爐CUT180技術參數(shù)一、設備介紹1、焊接對象：天然金剛石、人造單晶、CVD金剛石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、設備特點：采用了光輻射的加熱方式，大幅提高加熱效率，設備小型、便捷、直觀、已操作，特別適合超硬工具的行業(yè)特點。采用小型真空密封方式在真空狀態(tài)下進行加熱、冷卻

2021-04-15 1688/臺

鈹銅真空時效熱處理爐

產品型號TF1200-200-LV-T7爐管尺寸200*1000mm(管徑*管長）尺寸重量1233*410*555mm約重210kg額定電壓AC220V50/60Hz額定功率6.5kw

2021-04-15 25600/臺

鎳鈦材料真空熱處理爐

鎳鈦材料熱處理系統(tǒng)型號：RCF180一、設備示意圖：二、設備介紹：我司自主研發(fā)的高等真空熱處理設備。它具有效率高、成品質量好、智能易操作維護等特點。設備可手動和自動模式切換，PLC程序控制。三、設備用途：本設備應用領域：鎳鈦根管銼、鎳鈦血管支架、接骨板

2021-04-15 1688/臺

鎳鈦血管支架真空熱處理爐

鎳鈦材料熱處理系統(tǒng)型號：RCF180一、設備示意圖：二、設備介紹：我司自主研發(fā)的高等真空熱處理設備。它具有效率高、成品質量好、智能易操作維護等特點。設備可手動和自動模式切換，PLC程序控制。三、設備用途：本設備應用領域：鎳鈦根管銼、鎳鈦血管支架、接

2021-04-15 1688/臺

不銹鋼密封件封裝焊接爐

真空釬焊爐CUT180技術參數(shù)一、設備介紹1、焊接對象：天然金剛石、人造單晶、CVD金剛石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、設備特點：采用了光輻射的加熱方式，大幅提高加熱效率，設備小型、便捷、直觀、已操作，特別適合超硬工具的行業(yè)特點。采用小型真空密封方式在真空狀態(tài)下進行加熱、

2020-06-20 50000/臺

1600度氣氛燒結爐

氣氛爐AF1400-50設備簡介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環(huán)境下進行的燒結生產。技術參數(shù)：設備型號：AF1700-50爐膛尺寸：500*

2020-06-20 50000/臺

微行爐業(yè)1200℃箱式氣氛爐

氣氛爐AF1200-50設備簡介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環(huán)境下進行的燒結生產。技術參數(shù)：設備型號：AF1200-50爐膛尺寸：500*

2020-06-20 1688/臺

氮化鋁陶瓷基板高溫燒結爐

真空爐VRSF1600-422技術參數(shù)一、設備基本原理及主要用途1.設備用途適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的準確退火與微晶化、晶體的準確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件退火等高溫高真空要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材

2020-06-20 56200/臺

現(xiàn)貨供應1700度高溫箱式燒結

1700℃箱式高溫爐技術參數(shù)產品用途高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、質量檢測。粉末冶金行業(yè)以及義齒加工行業(yè)的烘烤、氧化鋯盤預燒結等。根據加熱區(qū)大小，進行小試，中試，批量生產。產品型號工作尺寸容積較限溫度工作溫度

2020-05-20 1688/臺

800度蜂窩陶瓷燒結爐

氣氛爐AF1200-30設備簡介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環(huán)境下進行的燒結生產。技術參數(shù)：設備型號：AF1200-30爐膛尺寸：30

2020-05-20 1688/臺

鈦合金材料氣氛保護熱處理爐

氣氛爐AF1200-50設備簡介：用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環(huán)境下進行的燒結生產。技術參數(shù)：設備型號：AF1200-50爐膛尺寸：500*

2020-05-20 1688/臺

1800度高溫箱式燒結爐 馬弗

箱式高溫爐BF1800-422-T7設備簡介：箱式高溫爐BF1800-422，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的準確退火與微晶化、晶體的準確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件及需高溫要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的生產設備。技術參數(shù)：

2020-05-20 1688/臺

1200度高溫旋轉管式爐

產品型號TF1200-60-R爐管尺寸60*100*1200mm（異形管兩端直徑60mm,中間直徑100mm）額定電壓AC220V50/60Hz額定功率3kw爐體結構雙層殼體結構，配有風冷系統(tǒng)，可使

2020-05-16 1688/臺

直銷1600度氣氛燒結爐 氮氣

設備技術參數(shù):設備型號：AF1700爐膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm較限溫度：1700工作溫度：1600控溫精度：?1度爐內溫均：?5度升溫速率：Max:20℃

2020-03-20 16788/臺

1500度真空氣氛燒結爐

真空爐VRSF1600型技術參數(shù)一、設備基本原理及主要用途1.設備用途適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的準確退火與微晶化、晶體的準確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，

2020-03-20 1688/臺

1800度氣氛爐 高溫氣氛燒結

設備技術參數(shù):設備型號：AF1700爐膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm較限溫度：1700工作溫度：1600控溫精度：?1度爐內溫均：?5度升溫速率：Max:20℃/M

2020-03-20 1688/臺

1000度箱式氮氣保護爐 可控

設備技術參數(shù):設備型號：AF1200爐膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm設計溫度：1200工作溫度：1100控溫精度：?1度爐內溫均：?5度升溫速率：Max:20℃/Min控制模式：智能PID調

2020-03-20 1688/臺

800度箱式真空氣氛爐

簡單介紹設備用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環(huán)境下進行燒結的生產及實驗。(80L)1200度氣氛爐的詳細介紹：技術參數(shù)設備名稱：1200度氣氛爐設備

2020-03-20 1688/臺

1500度氣氛爐燒結爐 光亮還

簡單介紹設備用途：廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領域在惰性氣氛環(huán)境下進行燒結的生產及實驗。(80L)1200度氣氛爐的詳細介紹：技術參數(shù)設備名稱：1200度氣氛爐

2020-03-20 1688/臺

真空管式爐 管式氣氛爐

設備技術參數(shù):設備型號：TF1200爐膛尺寸：440*60/80/100/120/150/200mm較限溫度：1200工作溫度：1100工作正壓：0.05Mpa工作真空：機械泵10^-2torr控溫精度：?1℃爐內溫均：?2℃升溫速率：Max:20

2020-03-20 1688/臺

20CrMnTi鋼球化退火爐

1200度高溫實驗爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統(tǒng)，爐膛采用進口氧化鋁多晶體纖維材料。保溫節(jié)能，體積小，能耗低，重量輕，外形美觀大方，結構設計先進合理。1200度高溫實驗爐主要用途和適用范圍：高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、新材料開發(fā)、農業(yè)生產體系物質灰化、

2020-03-20 1688/臺

1400度高溫真空電阻燒結爐

產品優(yōu)勢:1.LED大屏幕液晶顯示，本機集成了真空泵，內循環(huán)水冷卻系統(tǒng)，避免外接水源的繁鎖，使設備的外表面溫度更低，美觀大方，操作簡潔。2.本款產品加熱系統(tǒng)，混氣系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，內循環(huán)水冷卻系統(tǒng)，監(jiān)測系統(tǒng)，都可通過控制按鈕一鍵操作。本機功能一體，滿足客戶絕大部分要求。3.專業(yè)的真

2020-03-20 50000/臺

真空氣淬爐 高真空氣淬爐

真空氣淬爐用途：VGQF1350-644高壓氣淬真空爐，主要用于高合金工具鋼、高速鋼、不銹鋼的高壓氣淬及高溫合金磁性材料等的真空退火，也可用于粉末冶金的真空燒結，不銹鋼及銅釬焊等。結構：VGQF1350-644真空爐是由主機、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、氣冷系統(tǒng)、氣動系統(tǒng)、電控系統(tǒng)和爐外運輸車

2020-01-16 1688/臺

單晶生長爐 CVD系統(tǒng)真空管式

設備用途本設備是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、氣氛還原燒結、CVD實驗、真空退火﹑熔化﹑物質成分測量分析而研制的專項使用理想設備。應用領域半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、

2020-01-16 50000/臺

X光旋轉管真空除氣設備

VF1300-644型真空爐技術參數(shù)（金屬屏）（設計參考圖、僅供參考）一、設備用途本設備主要應用于金屬材料高真空熱處理。主要應用行業(yè)與工藝：3D打印金屬工件與合金材料的高真空熱處理；醫(yī)用記憶合金產品；醫(yī)用X射線管高真空除氣;金屬材料的真空釬焊。二、主要參數(shù)

2020-01-16 356000/臺

PECVD化學氣相沉積系統(tǒng)

PECVD化學氣相沉積系統(tǒng)產品簡介：此款設備配有Plasma實現(xiàn)等離子增強，滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置，可準確的控制反應腔體

2020-01-16 85600/臺

貨品、集熱管高溫真空除氣爐

VF1300-644型真空爐技術參數(shù)（金屬屏）一、設備用途本設備主要應用于金屬材料高真空熱處理。主要應用行業(yè)與工藝：3D打印金屬工件與合金材料的高真空熱處理；醫(yī)用記憶合金產品；醫(yī)用X射線管高真空除氣;金屬材料的真空釬焊。二、主要參數(shù)1、爐型結構：臥式，單室，爐體爐門

2020-01-16 356000/臺